В эпоху активного развития современных технологий, одной из самых перспективных отраслей является микроэлектроника. Пользу и значение данной отрасли невозможно переоценить. Благодаря последним достижениями науки, совершенствуются методы изготовления интегральных микросхем (ИМС).

Для производственных процессов ИМС необходима подготовленная вода. Процесс водоподготовки для микроэлектроники - это сложная технологическая схема. В ее составе высококачественное оборудование, способное обеспечить самую глубокую очистку. Нормы качества подготовленной воды регламентируют стандарты отечественный ОСТ 11.029.003-80 или американский ASTM D-5127-90.

Любая система, используемая для нужд микроэлектроники, имеет в своем составе устройство на основе обратного осмоса. В некоторых случаях необходимо использование сразу нескольких подобных устройств, расположенных последовательно. Для более глубокой очистки дополнительно устанавливаются скорые-напорные фильтры, где в качестве рабочих материалов служат ионообменные смолы в Н+ и ОН- форме ( так называемое H-OH ионирование).

Ну а так же используются другие устройства в зависимости от исходной воды. Причем система строится от основных элементов. Например, входящая в систему обратного осмоса вода имеет свои жесткие требования по ряду элементов, а если в исходной воде эти нормы превышены, то необходима установка предварительной очистки. Здесь могут быть и механические фильтры и обезжелезиватели и осветлители и прочие изделия.

Для того, чтобы установка системы водоподготовки для микроэлектроники была 100% рабочей, необходимо не только качественно очистить воду, но и не внести последующие загрязнения. Для этого важно использование максимально качественных материалов самих изделий и обвязочных материалов. Необходимо минимизировать удаленность системы от производства, т.е. сократить протяженность труб и уменьшить вероятность вторичных загрязнений.