Стандарты очистки воды на предприятиях по производству микроэлектроники
Немало маститых ученых с мировым именем считает двигателем прогресса микроэлектронику, которая используется практически во всех сферах нашей жизни. На уровне простого потребителя, мы сталкиваемся с продукцией микроэлектронной промышленности ежеминутно, даже не задумываясь о том, какой бы была наша жизнь без микроэлектронных устройств. При этом, большинству из нас известно на собственном опыте, какие эти устройства чувствительны к различным внешним воздействиям. Одно неловкое движение, легкий удар или капли воды способны вывести из строя чувствительную начинку сотового телефона, МР3 проигрывателя и других подобных устройств, которыми мы пользуемся ежедневно. Однако, далеко не все простые потребители себе представляют, в каких условиях производится сборка и тестирование перед поставкой на рынок микроэлектронных устройств. Сборочные цеха предприятий микроэлектронной промышленности оснащаются мощными системами вентиляции, в состав которых входят различные фильтры, а также установками очистки воды, без которой современное производство микроэлектроники невозможно.
До недавнего времени основным стандартом, определяющим качество воды в производстве микроэлектроники, был еще советский ОСТ 11.029.003-80, который после развала СССР на некоторых российских предприятиях сменил стандарт Американского общества по испытанию материалов («American Society of Testing Materials» — ASTM D 5127-90) и стандарт Института полупроводниковой техники и материалов («Semiconductor Equipment and Materials Institute» — SEMI). Сегодня, когда конкуренция на рынке микроэлектронных устройств достигла своего апогея, на территории России практически не осталось компаний, ориентированных на безнадежно устаревший ОСТ 80-го года прошлого века. Из современных стандартов деионизованной воды для предприятий по выпуску микроэлектроники наиболее популярен ASTM D 5127-90, который установлен для четырех типов воды:
- Е-1 — ультрачистая вода для производства элементов размером менее 1 мкм;
- Е-2 — вода для производства элементов размером от 1 до 5 мкм;
- Е-3 — вода для производства элементов размером более 5 мкм;
- Е-4 — вода для производства электронных плат общего назначения, где возможно промежуточное хранение подготовленной воды в атмосферных емкостях.
По словам специалистов в области очистки воды на предприятиях по производству микроэлектроники, для каждой технологической линии деионизации разрабатывается индивидуальная очистная установка, при проектировании которой учитываются ряд основных требований.
1. Постоянный контроль за качеством воды после ее деионизации, который осуществляется на всех этапах использования и хранения воды. Особое внимание при этом уделяется таким показателям, как температура, количество органического углерода и удельная электропроводность воды.
2. Использование средств, позволяющих сохранять состав воды после деионизации на всех этапах ее транспортировки и использования.
3. Использование системы хранения, поставки и распределения воды после деионизации, которая гарантируют отсутствие попаданий в нее микробиологических и других типов загрязнений.
4. Наличие установки предварительной очистки воды, которая способна обеспечить оптимальный ее состав перед прохождением через систему деионизации.
5. Гарантированное сохранение температуры воды после деионизации в пределах, не превышающих отклонение от необходимых более одного градуса Цельсия.
Большинство современных разработок в области очистки воды на предприятиях по выпуску микроэлектроники — это модульные, компактные системы, которые легко обслуживать, ремонтировать и модернизировать. Контроль и управление основными процессами в подобных установках осуществляется автоматизированными системами с функцией звукового (светового) сигнала, который подается при необходимости вмешательства оператора очистного оборудования.